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超精密光學技術
超精密光機系統協同設計

以光刻投影物鏡爲代表的精密光學系統設計是綜合了光學、熱學、力學等分析的協同設計過程。其中光學設計綜合考慮元件材料、加工與檢測、光學鍍膜、機械支撐結構、鏡頭集成等各環節,通過複算優化、計算機輔助裝調、系統級元件精修等手段,在確保可制造性的前提下對物鏡的光路進行優化,以實現嚴苛的像質指標。熱學設計針對輻照工況,在具體熱載荷下,通過對鏡頭支撐結構的優化設計實現理想的導流效果,並在合適的位置安置像質補償元件,對像差進行反饋/前饋補償,實現工況下的成像質量保障。力學設計通過有限元仿真等方法對元件的支撐單元或鏡頭的整體結構進行動力學響應評估,以此做出針對性改進,確保在一定的外界幹擾下,仍然能夠維持像質的穩定性。

         本團隊基于面向IC制造的光刻投影物鏡研制,建立了複雜光機系統協同開發模型與公差體系,搭建了光/熱/力協同設計與仿真平台,並積累了豐富的超精密光機系統開發經驗。團隊基于當前制造能力,研制的國內首套NA0.75-ArF光刻投影物鏡實現了全視場平均波像差優于4nm,全視場平均畸變優于5.7nm的核心指標


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