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02專項“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目順利通過專項任務內部驗收
發布時間: 2018-01-02

2017年12月23日,國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”(以下簡稱02專項)實施管理辦公室在長春國科精密光學技術有限公司組織召開了“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目的專項內部任務驗收會。

“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目是02专项核心任务光刻机项目群的核心攻关项目,也是难度、复杂度最高的项目之一。该项目以浸没式光刻机应用为目标,开展高NA浸没式曝光光学系统关键技术研究,并研制一套面向90nm节点的NA0.75 ArF光刻曝光光学系统工程样机,从而为未来高NA浸没式光刻曝光光学系统的研发奠定技术、装备与人才基础。

該項目于2009年7月正式啓動,由中國科學院長春光學精密機械與物理研究所、中國科學院上海光學精密機械研究所、中國科學院光電研究院等三家國內技術優勢單位聯合承擔。

(項目驗收會現場)

(專家組現場考察)

本次專項任務驗收會議專家組由9名委員組成,02專項咨詢專家委員會主任/國家外專局原局長馬俊如擔任專家組組長。國家科技部原副部長/02專項光刻機工程指揮部曹健林總指揮、02專項技術總師葉甜春所長、02專項實施管理辦公室顧瑾栩處長、中科院重大任務局信息海洋處李才興處長、長春光機所賈平所長、上海光機所陳衛標副所長、中科院光電研究院王宇院長、整機單位上海微電子裝備(集團)股份有限公司的用戶代表、項目/課題負責人及主要研發骨幹等共計四十余位領導、專家參加了本次驗收會議。

(項目首席科學家楊懷江研究員做項目彙報)

(專家組認真聽取項目彙報)

在組長馬俊如先生的主持下,驗收專家組認真聽取了項目首席科學家楊懷江研究員及課題負責人黃惠傑研究員、隋永新研究員、苗二龍研究員等關于項目及課題任務完成情況的彙報,02專項特聘專家/項目測試專家組組長馬振宇先生的現場測試報告,以及用戶單位上海微電子裝備(集團)股份有限公司技術副總監段立峰博士的NA0.75光刻機曝光光學系統工程樣機測試驗證報告,審閱了任務驗收資料並進行了現場考察和質詢討論。

在项目汇报报告中,首席科学家杨怀江研究员凝练了研发工作所取得的主要成果为,(1)通过引入系统工程理念,建立了面向高复杂度超精密光学系统工程研发的矩阵式組織架構与任务运行模式;(2)全面突破了复杂照明系统设计、照明光瞳整形、照明光场均匀化及校正、深紫外激光脉冲监测、超精密光学系统协同设计、超精密光学元件制造与检测、超精密机械制造与检测、超高精度物镜结构/机构设计、集成与装调等关键技术;(3)研制了含非球面光学元件的NA0.75光刻投影物镜系统及照明系统,经整机曝光工艺验证测试获得了优于85nm光刻分辨率的优异结果,突破了制约我国高端光刻机发展的核心技术瓶颈,填补了国内空白,为我国高端光刻机发展的重要里程碑;(4)在NA1.35浸没式光刻曝光光学系统光学设计、偏振照明模式产生、照明光瞳偏振参数检测、折反式物镜典型光学元件制造技术验证、曝光光学系统产业化发展等方面的研究工作满足任务合同验收要求。

圍繞本項研發任務,研發團隊累計申請了發明專利337項(其中國際發明專利26項),授權156項,軟件著作權1項;建立了高NA照明系統研發平台、超精密光學系統協同設計平台、超精密光學元件制造平台、超精密光學元件檢測平台、物鏡系統光機裝調平台;培養了一支以80後優秀碩士/博士爲主體超過200人的超精密光學工程專業研發團隊,其中曝光光學系統研發核心骨幹人員已于2017年轉入長春國科精密光學技術有限公司,後續研發工作全部轉入企業化運行。

會議專家組一致認爲,該項目圓滿完成了任務合同書規定的各項研究工作,取得的研究成果達到了任務合同書規定的考核要求和考核指標,爲後續浸沒曝光系統研制和産業化打下了堅實的技術、裝備及人才基礎。會議專家組一致同意該項目通過專項任務內部驗收。

會議認爲,該項目通過了專項內部任務驗收,標志著我國已具備了自主研制超精密光學系統的技術能力,表明我國高端光刻機研制已初步形成了一個完整的研發技術體系。

會議要求,轉制後的研發團隊要認真面對在企業平台上開展工作的新挑戰,應認真總結前期成功研發經驗,積極創建面向市場的産業化研發與生産能力,全力做好28nm節點ArFi光刻機曝光光學系統研制、110nm節點KrF曝光光學系統産品批量化生産任務,爲我國建設具有國際競爭力的高端精密光學企業奠定基礎。

該項目將在近期由02專項實施管理辦公室組織專項正式驗收。