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我國首套全自主知識産權高端光刻機曝光光學系統研制成功
發布時間: 2018-06-08

2018年3月3日,由長春國科精密光學技術有限公司研發團隊承擔的國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”(以下簡稱02專項)核心任務—“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目在上海通過了任務正式驗收。

驗收會議由02專項項目實施管理辦公室和專項總體組共同組織召開。02專項咨詢專家委員會主任馬俊如先生任驗收會議專家組組長。科技部重大辦副巡視員/02專項實施管理辦公室副主任邱鋼、02專項實施管理辦公室主任/上海市科學技術委員會副主任幹頻、02專項技術總師葉甜春、用戶單位代表、項目承擔單位代表、項目首席科學家、課題負責人等共計四十余位領導、專家參加了本次驗收會議。

驗收会1

任務驗收會現場

驗收專家組認爲研發團隊針對NA0.75光刻機曝光光學系統的研發需求突破了複雜照明系統研制、投影物鏡光學設計全频段深亚纳米精度光學加工与镀膜、深亚纳米精度光學元件檢測、亞微米精度機械零件加工与檢測、投影物鏡光機结构/機構設計、投影物鏡系統集成与檢測装调等系列超精密光學关键技術;成功研制了含有非球面光元件NA0.75投影光刻曝光光學系統,並在90nm光刻機整機上獲得了滿足光刻工藝要求85nm極限曝光分辨率的成果;研發团队成功開展了面向NA1.35照明系統与物鏡系統关键技術研究,爲浸没式曝光光學系統研奠定了良好的技術基礎

杨老师2

项目首席科學家楊懷江研究員彙報項目執行情況

项目研發工作共申请發明专利337項(其中國際發明专利26項)授權156項;形成了一支80後博士/碩士爲主超過200人的青年創新團隊;通過國際采購對外合作研發及自主攻關,建立了具有國際先進水平的高NA照明系統研平台、物鏡光學系統設計平台、超高精度光學加工平台、超高精度保形光學镀膜平台、超高精度光學檢測平台、超高精度機械加工与檢測平台、物鏡系統光機集成與裝調平台

驗收專家組認爲,NA0.75投影光刻曝光光學系統的成功研發不仅突破了制约我國高端光刻機發展的核心技術瓶颈,還形成了一支可支撐高端光刻機曝光光學系統持续發展的青年創新團隊;其研發工作全面完成了預定的研究內容,達到了任務合同書規定的技術考核指標要求。驗收專家組一致同意項目通過驗收。

與會各方領導對項目取得的豐碩成果也給予了充分的肯定和祝賀02专项技術总师叶甜春表示曝光光學系統的成功研發证明了光刻機这一大國重器是完全可以由國内自主研發的。他希望这支专注、专业的年轻队伍继续攀登超精密光學事业上的珠穆朗玛峰。

段立峰

用戶代表SMEE公司段立峰博士彙報曝光工藝試驗驗證情況

科技部重大辦副巡視員/02專項實施管理辦公室副主任邱鋼表示光刻機是02专项的标杆,光學系統更是光刻機的标杆,从某種意義上說,國家民口重大專項戰略任務的標杆。該标杆项目为中國未来创新體系的建设,为我面向2035年继续实施國家科技重大专项或其他國家重大戰略任務做出了非常好的探索和實踐

02專項咨詢委主任馬俊如先生指出90nm光刻機曝光光學系統任务的成功完成,证明了我们掌握的是创新的、自主开發的技術提振民族精神和增強自主創新自信心具有重要意義,爲面向28nm光刻機以及更高水平的光刻機曝光光學系統的研制和生产奠定了非常坚实的技術、装备和团队基础,项目形成的团队、培养的人才和突破高端技術是國家的宝贵财富。他预祝團隊在新的任務中創造新的輝煌。

项目首席科學家/公司總經理楊懷江研究员代表项目研發团队對各級領導、各位專家項目承擔單位整機单位的支持、指導與幫助表示真誠的感謝。楊懷江研究员表示項目的完成仅是攀登超精密光學事业高峰、實現我國高端光刻機自主研發和産業化過程中的一個中間節點,團隊將繼續攻堅克難全力以赴,不負國家、民族的重托,为我國高端光刻曝光光學系統産業化的重大戰略目標的實現做出貢獻。

马俊如

02專項咨詢委主任馬俊如先生講話

会议要求,研發团队要认真面對在企业平台上開展工作的新挑战,认真总结前期成功的研發经验,积极创建面向市场的産業化研發与生产能力,全力做好28nm節點ArFi光刻曝光光學系統研制、110nm节点KrF曝光光學系統产品的批量化生产任务,为我國建设具有國际竞争力的高端精密光學企业、實現我國高端光刻曝光光學系統的産業化奠定基础。